Ein wahres Raumwunder sind die neuen Wafer UV- Anlagen von Evoqua/ Rheno mit einem Einbaumass von nur 19 cm bei bis zu 700 m³/h Umwälzleistung.

Damit passen sie in jedes noch so eng verlegte Rohrleitungssystem. Ein automatisches Wischersystem sorgt für das Entfernen von Belägen und maximale UV-Ausbeute. Die Wafer-UV-Anlagen sind gemäss DIN 19643 für den Abbau von gebundenem Chlor konzipiert. Durch eine Leistungsregulierung von 30 % bis 100 % können die UV-Anlagen gedimmt und in Abhängigkeit der Konzentration an gebundenem Chlor effizient betrieben werden. Der durch Chloramine hervorgerufene typische Schwimmbadgeruch, brennende Augen, Hautirritationen und auch korrosive Effekte können dadurch enorm minimiert werden. Der Betreiber gewinnt darüber hinaus noch zusätzliche Betriebssicherheit, da er mit der UV-Behandlung eine weitere Keimbarriere nach dem Multibarrierenprinzip nutzt. Zu guter Letzt werden auch chlorresistente Parasiten wie Kryptosporidien erfolgreich bekämpft.